如何辨別鍍鋅管是真是假
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發(fā)布日期 2021-11-18 17:11:56
鍍鋅管,又稱鍍鋅鋼管,分熱鍍鋅和電鍍鋅兩種,熱鍍鋅鍍鋅層厚,具有鍍層均勻,附著力強,使用壽命長等優(yōu)點。電鍍鋅成本低,表面不是很光滑,其本身的耐腐蝕性比熱鍍鋅管差很多。
硫酸鹽鍍鋅的轉(zhuǎn)化
硫酸鹽電鍍鋅鐵合金中只保留硫酸鹽鍍鋅的主鹽硫酸鋅,鍍液處理時加入氫氧化鈉形成不溶性氫氧化物沉淀,可以除去硫酸鋁和明礬(硫酸鋁鉀)等其他成分;對于有機添加劑,可以通過加入粉狀活性炭吸附來去除。結(jié)果表明,硫酸鋁和硫酸鋁鉀不能一次完全去除,對涂層的亮度有影響,但不嚴重,可以拿出來食用。此時,涂層的亮度可以恢復。處理后,溶液可根據(jù)新工藝所需成分的含量進行補充,即轉(zhuǎn)化完成。
冷鍍鋅鋼管
鋅層是電鍍層,與鋼管分開。鋅層很薄,鋅層簡單地附著在鋼管基體上,所以很容易脫落。因此,其耐腐蝕性差。在新建建筑中,嚴禁使用冷鍍鋅鋼管作為供水管。
鍍鋅鋼管用途
1.消防工程:目前消防給水管道基本上是鍍鋅管,鍍鋅管外層涂有油漆,所以可以看到紅色的消防管道,其實它們只是經(jīng)過鍍鋅管加工而成。2.鋼結(jié)構、焊接工程:現(xiàn)在很多廠房外面都是用焊接鋼管建造的,但是焊接鋼管很容易生銹,為了防止生銹,還要涂上油漆。為了解決這個問題,許多新的鋼結(jié)構工程現(xiàn)在都直接使用鍍鋅管,這樣可以節(jié)省時間。它會持續(xù)更久。3.農(nóng)業(yè):主要用于建造溫室、防空洞和花瓜支柱。
鍍鋅鋼焊接特性分析
一般來說,鍍鋅鋼在低碳鋼外面涂有一層鋅,鍍鋅層一般為20um厚。鋅的熔點為419℃,沸點約為908℃。在焊接中,鋅熔化成液體,漂浮在熔池表面或焊縫根部。鋅在鐵中有很大的固體溶解度。液態(tài)鋅將沿著晶界腐蝕焊接金屬,低熔點鋅將形成“液態(tài)金屬脆化”。同時,鋅和鐵會在金屬間形成脆性化合物。這些脆性相會降低焊接金屬的塑性,并在拉伸應力下導致裂紋。如果角焊縫是焊接的,尤其是丁字接頭角焊縫,最有可能產(chǎn)生貫穿裂紋。鍍鋅鋼焊接過程中,坡口表面和邊緣的鋅層在電弧加熱的作用下會氧化、熔化、蒸發(fā),甚至會散發(fā)出白煙和蒸汽,容易造成焊縫氣孔。氧化形成的氧化鋅具有高熔點,約高于1800℃。如果焊接過程中參數(shù)太小,會導致氧化鋅渣夾雜。因為鋅變成了脫氧劑。產(chǎn)生Feo-mno或feo-mno-sio2低熔點氧化物渣。其次,由于鋅的蒸發(fā),大量的白煙和灰塵被排放出來,這對人體有刺激和有害的影響。因此,焊接位置的鍍鋅層必須打磨掉。
電鍍設備的特殊性
鍍鋅管鍍銅屬于連續(xù)電鍍,但電鍍設備不同。線材鍍液設計具有細長帶狀的特點,本體長、寬、淺。電鍍時,鐵絲穿過孔,在液面上呈之字形展開,以保持相互間隔。鍍鋅管不同于鐵絲,有其獨特的特點,坡口設備更加復雜。罐體由上部和下部組成。上部為電鍍槽,下部為溶液循環(huán)儲罐,形成窄上寬下的梯形罐體。電鍍槽中有一個鍍鋅管道電鍍操作的通道。罐體底部有兩個通孔與下部儲罐相連,下泵形成電鍍液循環(huán)再利用系統(tǒng)。因此,鍍鋅管像鐵絲電鍍一樣是動態(tài)的,鍍鋅管的電鍍液也是動態(tài)的。
獨特的清潔生產(chǎn)
鍍鋅管采用硫酸鹽電鍍鋅鐵合金工藝,即生產(chǎn)線槽和槽全部穿孔直通,無任何溶液流出或溢出。生產(chǎn)過程的每個過程都由一個循環(huán)系統(tǒng)組成。每種浴溶液,即酸堿溶液、電鍍液、放電光和鈍化溶液,僅循環(huán)使用,不會泄漏或排放到系統(tǒng)外部。生產(chǎn)線僅配備五個清洗罐,定期回收排放,尤其是鈍化后無廢水的生產(chǎn)過程。
冷鍍鋅管
冷鍍鋅是鍍鋅,鍍鋅量很少,只有10-50g / m2,其耐蝕性與熱鍍鋅管有很大不同。為了保證質(zhì)量,大多數(shù)常規(guī)鍍鋅管制造商不使用鍍鋅(冷鍍鋅)。只有那些小型和老舊設備的小企業(yè)使用鍍鋅,當然,它們的價格相對便宜。目前,建設部已正式淘汰落后技術。今后,不允許使用冷鍍鋅管作為水管和煤氣管。
硫酸鹽鍍鋅工藝的優(yōu)化
硫酸鹽鍍鋅的最大優(yōu)點是電流效率高達100%,沉積速度快,是其他鍍鋅工藝無法比擬的。由于涂層結(jié)晶度差、分散性差、鍍深能力差,只適用于幾何形狀簡單的管材和線材的鍍覆。硫酸鹽鍍鋅鐵合金工藝優(yōu)化了傳統(tǒng)的硫酸鹽鍍鋅工藝。只有主鹽硫酸鋅被保留,其余成分被丟棄。在新工藝配方中加入適量鐵鹽,使原來的單一金屬鍍層形成鋅鐵合金鍍層。該工藝的重組不僅發(fā)揮了原工藝電流效率高、沉積速度快的優(yōu)點,而且大大提高了分散性和深鍍能力。過去,復雜零件不能電鍍,但現(xiàn)在簡單和復雜零件都可以電鍍,保護性能比單一金屬高3-5倍。生產(chǎn)實踐表明,涂層晶粒比原涂層晶粒更細、更亮,沉積速度更快。涂層厚度可在2-3分鐘內(nèi)滿足要求。